Electron beam lithography for Nanofabrication 

    Rius Suñé, Gemma (Date of defense: 2008-03-10)

    La litografía por haz de electrones (Electron Beam Lithography, EBL) se ha consolidado como una de las técnicas más eficaces que permiten definir motivos en el rango nanométrico. Su implantación ha permitido la nanofabricación ...